Deze lasergigant ontving een geheim bezoek van de CEO van TSMC

Volgens berichten in de Koreaanse media bezocht TSMC CEO Wei Zhejia op 26 mei het hoofdkantoor van ASML in Nederland en bezocht hij tegelijkertijd de Duitse industriële lasergigant ter ere van het 100-jarig jubileum van Tonspeed.
De verblijfplaats van Wei werd via sociale media bekendgemaakt door Christophe Fouquet, CEO van ASML, en Nicola Leibinger-Kammüller, CEO van Thomson.
TSMC overweegt naar verluidt om High NA EUV-apparatuur in te voeren voor het 1,6nm-proces na A16, dat in de tweede helft van 2026 in serieproductie moet gaan, en tot die tijd de bestaande Low NA EUV-apparatuur te gebruiken, wat cruciaal is voor sub-2nm-chipprocessen.
Volgens het laatste nieuws zal de nieuwe High NA EUV-lithografiewaferproductie van ASML een snelheid bereiken van 400 tot 500 wafers per uur, terwijl de huidige EUV-standaard 200 wafers per uur is 2-2.5 keer zo snel, dat wil zeggen een toename van 100% tot 150%, wat de productiecapaciteit verder zal verhogen en de kosten zal verlagen.
Vorig jaar was Intel de eerste in de industrie die ASML binnenhaalde voor zijn op maat gemaakte ontwerp van verschillende High NA EUV-apparatuur. De industrie verwacht nu dat Intel deze nieuwe generatie lithografie volledig zal benutten in zijn 14A (1,4 nm) halfgeleiderproces.
Eerder had TSMC aangegeven dat het de nieuwste High-NA EUV-apparatuur van ASML pas in 2026 zou kopen, omdat het die te duur achtte om economisch rendabel te zijn. Dat idee lijkt nu echter te wankelen.
De hoofdpersoon van dit geheime bezoek was niet alleen ASML, maar ook lasergigant TRUMPF uit Duitsland. TRUMPF, opgericht in 1923, vierde vorig jaar haar 100-jarig jubileum.
Trumpf Group is de enige fabrikant ter wereld die lichtbronnen kan leveren voor extreme ultraviolet (EUV) lithografie. Daarom is EUV-lithografie ook een van de aandachtspunten van Trumpf's ontwikkeling op dit moment.
Trafigura investeert al meer dan 16 jaar in lithografielasergeneratiesystemen. Sinds 2005 werkt Trafigura samen met Cymer Inc. in de Verenigde Staten en heeft de samenwerking verder verdiept nadat Cymer werd overgenomen door ASML. Voor dit doel heeft TRUMPF een gespecialiseerde dochteronderneming opgericht, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, die zich richt op de ontwikkeling en productie van EUV-lasers. In 2015 bestelde ASML 15 EUV-lithografietools bij TRUMPF, waarmee de EUV-lithografiebusiness het middelpunt werd van de ontwikkeling van Thomson.
Volgens het eerder aangekondigde rapport van Trafigura voor het fiscale jaar 2022/2023 (dat eindigt op 30 juni 2023) bedroeg de totale omzet 5,4 miljard euro, een stijging van 27% op jaarbasis.
Daaronder bereikte de omzet van EUV-activiteiten 971 miljoen euro, een stijging van 22,2% op jaarbasis. Voornamelijk om extreme ultraviolet (EUV) apparaten te leveren, leveren ultra-high-power koolstofdioxidelasers die worden gebruikt om de EUV-emissie in ASML's enorme lithografietoolbronmodule aan te drijven.
Voor ons land is er nog steeds geen onderneming die massaproductie van EUV-lithografielichtbronnen kan uitvoeren. Volgens het laatste nieuws heeft het Shanghai Institute of Optics and Precision Machinery van de Chinese Academy of Sciences (SIPM), in samenwerking met het Harbin Institute of Technology (HIT) en het Shanghai Institute of Technology (SIT), op 14 mei een grote doorbraak bereikt op het gebied van Extreme Ultraviolet (EUV) en zachte röntgenstralen, en heeft het met succes de structurele vortexlichtmodulatie gerealiseerd. Deze mijlpaal markeert niet alleen dat China's technologie voor extreme ultraviolette lichtbronnen een belangrijke stap voorwaarts heeft gezet, maar ook dat meer binnenlands lithografieonderzoek en -ontwikkeling de belangrijkste technologische barrières heeft geslecht.
Daarnaast zijn sommige binnenlandse ondernemingen, zoals AOP Optronics, Fujing Technology, etc., ook actief betrokken bij de ontwikkeling en productie van fotolithografie-gerelateerde technologieën. Onder hen de belangrijkste aandeelhouder van het AOP foto-elektrische Changchun Institute of Optical Machinery van de Chinese Academie van Wetenschappen, die betrokken is bij de binnenlandse lithografie lichtbron, optische deel van het R & D-werk;
En Fuching Technology is een technologische eenhoorn van lithografie-upstreammaterialen onder CAS, die KBBF heeft ontwikkeld, een niet-lineair optisch kristalmateriaal, volledige naam KBeNbBFO, dat laserlicht kan omzetten in diep ultraviolet laserlicht met een golflengte van 176 nm.
Deze diep-ultraviolette laserlichtbron heeft extreem hoge energie en zeer hoge concentratie, dus het kan worden gebruikt om diep-ultraviolette solid-state lasers te creëren. En op het gebied van chipproductie kan het de precisie van bestaande fotolithografie met meer dan 10 keer verbeteren, waardoor de efficiëntie en precisie van chipproductie aanzienlijk worden verbeterd.
Hoewel deze binnenlandse ontwikkelingen nog niet het niveau van massaproductie van EUV-lithografielichtbronnen hebben bereikt, hebben ze wel de basis gelegd voor verdere ontwikkeling van China op het gebied van lithografietechnologie.