Dunnefilmlasers met hun uitstekende straalkwaliteit en hoge optische-naar-optische conversie-efficiëntie worden steeds vaker gebruikt op gebieden als industriële productie en fundamenteel wetenschappelijk onderzoek. Vooral de ultrasnelle lasertechnologie met dunne sectie is de beste oplossing gebleken om grote pulsenergie, ultrakorte pulsbreedte en hoog gemiddeld vermogen te realiseren, ook wel bekend als het "kroonjuweel" van de laserindustrie, en is van groot belang. betekenis voor hoogwaardige productie, opwekking van extreem ultraviolet licht en attosecondewetenschap.
Het Duitse Trafotek leidt lange tijd exclusief het onderzoek en de productie van dunnefilmlasers en heeft grote commerciële successen geboekt. In de afgelopen vier jaar heeft het projectteam, onder steun van het National Key R&D Program "New Display and Strategic Electronic Materials", onder leiding van prof. Ruan Shuangchen van de Shenzhen University of Technology, samengewerkt met het Shanghai Laser Plasma Research Institute van de Chinese Academie voor Technische Natuurkunde, Jiangsu Normal University, Daqi Laser, Institute of Semiconductor Research van de Chinese Academie van Wetenschappen, Jiangsu Third Generation Semiconductor Research Institute en andere eenheden die technisch onderzoek en productie van dunnefilmlasers uitvoeren. Semiconductor Research Institute van de derde generatie en andere eenheden om technisch onderzoek uit te voeren, de precisieverwerking van dunne-filmkristallen, het ontwerp en de verpakking van het kristalkoellichaamsysteem, het 48-slagpompsysteem, hoge stabiliteit regeneratieve versterkingsresonantieholte en multi-resonantieholte te overwinnen -kanaalversterking en andere belangrijke kerntechnologieën, de eerste in China die een diameter van > 20 mm Yb bereikt: YAG dunnefilmkristalverpakking, de ontwikkeling van een pompsysteem van de kilowattklasse 48-slag.
In februari 2024 realiseerde de groep een grote doorbraak van ultrasnelle dunne-vloklasers van kilowattklasse in China: maximaal gemiddeld pulsvermogen van 1,075 kW, pulsbreedte van 7 ps, herhalingsfrequentie van 500-800 kHz instelbaar, maximale pulsenergie van 2,1 mJ, straalkwaliteit van M2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
